電漿蝕刻氣體

電漿蝕刻 CF4 氣體 在電漿中分解,產生氟自由基以進 行氧蝕刻製程 e−+ CF 4 → CF3 + F + e− 4F + SiO2 → SiF4(g) + O2(g) 增進蝕刻化學反應 6 11 電漿增強化學氣相沈積法 ...

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