電漿蝕刻氣體

「乾式蝕刻技術(Dry etching)」是使用氣體離子(電漿)來與材料產生化學反應,使材料中不需要的部分因為化學反應而去除掉,因為不含水份,故稱為「乾式 ...

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    http://cmnst.ncku.edu.tw
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    3-18蝕刻技術(Etching technology)
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    Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學 I-Shou University
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    Chapter 9 蝕刻 - 義守大學 I-Shou University
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    半導體製程及原理 - 歡迎來到中山大學全球資訊網第二站
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    有關電漿蝕刻(乾式蝕刻) | Yahoo奇摩知識+
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    電漿與蝕刻 - 國家奈米元件實驗室
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