icp感應耦合電漿

感應耦合式電漿蝕刻 Inductively Coupled Plasma etcher (ICP) 其主要功能是作高深寬比的乾式 蝕刻 (Etching Aspect Ratio ≧ 15 : 1)。利用高週波電感線圈所產生的感應磁場去增加腔體中的氣體 碰撞機率使得氣體解離,並引發足夠的能量產生反應式氣體離子電 ...

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  • 感應耦合等離子體分析技術可以對材料元素構成從ppt到 wt%範圍內進行量化測定。不適用感應耦合等離子體分析技術的元素包括C, H, O, N和鹵素。
    ICP-OESMS(感應耦合電漿原子發射光譜儀質譜)
    http://www.eaglabs.com.tw
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    感應耦合電漿 - 維基百科,自由的百科全書
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    感應耦合電漿原子發射光譜儀(ICP-OES)購置規格
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  • 感應偶合電漿-原子放射光譜 ICP-AES (Inductively Coupled Plasma with Atomic Emission Spectroscopy) 原理簡介:...
    ICP-AES (Inductively Coupled Plasma with Atomic Emission ...
    http://www.mse.ntu.edu.tw